Tecnologia

Revestimento por Magnetron Sputtering

Outra forma de tecnologia de revestimento PVD.

 

 

 

Revestimento de plasma.

 

Sputtering Magnetron é um processo de revestimento de plasma pelo qual o material de pulverização é ejetado devido ao bombardeamento de íons para a superfície alvo. A câmara de vácuo da máquina de revestimento PVD é preenchida com um gás inerte, como o argônio. Ao aplicar uma alta tensão, uma descarga de brilho é criada, resultando na aceleração de íons para a superfície de destino e um revestimento de plasma. Os íons de argônio ejetarão materiais de pulverização da superfície do alvo (sputtering), resultando em uma camada de revestimento sputtered nos produtos na frente do alvo.

 

 

pulverização reativo

 

Freqüentemente, um gás adicional, como nitrogênio ou acetileno, é usado, o qual reage com o material ejetado (pulverização reativa). Uma vasta gama de revestimentos pulverizados é possível com esta técnica de revestimento PVD. A tecnologia de pulverização magnética é muito vantajosa para revestimentos decorativos (por exemplo, Ti, Cr, Zr e nitretos de carbono), devido à sua natureza suave. A mesma vantagem faz com que a pulverização do magnétron seja amplamente utilizada para revestimento tribológico em mercados automotivos (por exemplo, CrN, Cr2N e várias combinações com revestimento DLC - revestimento Diamond Like Carbon).

 

 

Campos magnéticos

 

A pulverização magnética é um pouco diferente da tecnologia geral de sputtering. A diferença é que a tecnologia de pulverização magnética usa campos magnéticos para manter o plasma na frente do alvo, intensificando o bombardeio de íons. Um plasma altamente denso é o resultado desta tecnologia de revestimento PVD.

 

 

O caráter da tecnologia de sputtering Magnetron:

• Um alvo resfriado a água, tão pouco calor de radiação é gerado
• Quase qualquer material alvo metálico pode ser pulverizado sem decomposição
• Materiais não condutores podem ser engasgados usando radiofrequência (RF)

 

ou freqüência média (MF)

 

• Revestimentos de óxidos podem ser pulverizados (pulverização catódica)
• Excelente uniformidade de camada
• Revestimentos muito suaves e pulverizados (sem gotículas)
• Catodos (de até 2 metros de comprimento) podem ser colocados em qualquer posição, portanto, alta flexibilidade de projeto do equipamento de pulverização

 

A desvantagem da tecnologia de pulverização Magnetron

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