PVD é a abreviação de Deposição física de vapor (Physical Vapor Deposition). Refere-se à prática de usar a tecnologia de descarga de arco de baixa e alta corrente para vaporizar o material alvo e ionizar tanto o material evaporado quanto o gás sob condições de vácuo. Usando a aceleração do campo elétrico, o material evaporado e seus produtos de reação são depositados na peça de trabalho.
A tecnologia PVD (deposição de vapor físico) é dividida principalmente em três tipos: revestimento de evaporação a vácuo, revestimento de pulverização a vácuo e revestimento a vácuo de íon