A fonte de alimentação DC resfriada a água com estrutura compacta pode alcançar a melhor qualidade de revestimento, para que possa substituir a fonte de alimentação de pulso no processo de pulverização catódica do magnetron.

Características:

• O sistema reduz bastante o tempo de reação e a energia residual do arco é reduzida a uma taxa mínima
• Mesmo na alta taxa de arco do processo, pode garantir que o filme seja fino e homogêneo.
• Energia remanescente de arco extremamente baixa, recuperação rápida
• Aplicações avançadas de sputtering DC
• Para obter alta potência em uma estrutura compacta
• Fonte de alimentação refrigerada a água

Benefício para o cliente:

• Melhorar significativamente a eficiência da produção
• Qualidade de filme de alto desempenho
• Fonte de alimentação ainda maior que 40 KW e integração de sistemas também muito conveniente
• Alta estabilidade do sistema e baixo custo de manutenção