Qual é a diferença entre revestimento evaporativo e revestimento por pulverização catódica？

O filme de evaporação a vácuo serve para aquecer o material a ser evaporado a uma determinada temperatura por aquecimento por resistência ou feixe de elétrons e bombardeio a laser em um ambiente com um grau de vácuo não inferior a 10-2Pa, de modo que a energia de vibração térmica de moléculas ou átomos em o material excede a superfície. Portanto, um gree número de moléculas ou átomos são evaporados ou sublimados e depositados diretamente no substrato para formar uma película fina. O revestimento por pulverização catódica de íons consiste em usar o alto movimento de íons positivos gerados pela descarga de gás sob a ação de um campo elétrico para bombardear o alvo como o cátodo, de modo que os átomos ou moléculas no alvo escapem e se depositem na superfície da peça de trabalho para ser banhado, formando o filme desejado.

O método comumente usado para revestimento por evaporação a vácuo é o método de aquecimento por resistência, que tem as vantagens de estrutura simples da fonte de aquecimento, baixo custo e operação conveniente. O aquecimento por feixe de elétrons e o aquecimento a laser podem superar as deficiências do aquecimento por resistência. No aquecimento por feixe de elétrons, um feixe de elétrons focado é usado para aquecer diretamente o material bombardeado, e a energia cinética do feixe de elétrons torna-se energia térmica para evaporar o material. O aquecimento a laser utiliza um laser de alta potência como fonte de aquecimento, mas devido ao alto custo dos lasers de alta potência, só pode ser usado em alguns laboratórios de pesquisa.

A tecnologia de pulverização catódica difere da tecnologia de evaporação a vácuo. "Sputtering" refere-se ao fenômeno no qual partículas energéticas bombardeiam a superfície de um corpo (alvo), fazendo com que átomos ou moléculas sólidas sejam ejetados da superfície. das partículas ejetadas estão em estado atômico, muitas vezes chamados de átomos pulverizados. As partículas de pulverização catódica usadas para bombardear o alvo podem ser elétrons, íons ou partículas neutras, porque os íons são facilmente acelerados sob um campo elétrico para obter a energia cinética necessária, então os íons são usados ​​principalmente como partículas de bombardeio. O processo de pulverização catódica é baseado na descarga luminescente, ou seja, os íons sputtering originam-se da descarga de gás. Diferentes técnicas de pulverização catódica usam diferentes métodos de descarga luminosa. A pulverização catódica DC de dois pólos usa descarga luminosa DC; a pulverização catódica tripolar usa descarga luminosa suportada por cátodo quente; A pulverização catódica de RF usa descarga luminosa de radiofrequência; A pulverização catódica do magnetron usa descarga luminosa sob o controle do campo magnético anular. descarga luminosa.

Comparado com o revestimento por evaporação a vácuo, o revestimento por pulverização catódica tem muitas vantagens. Por exemplo, qualquer substância pode ser pulverizada, especialmente elementos e compostos com alto ponto de fusão e baixa pressão de vapor; boa adesão entre o filme pulverizado e o substrato; alta densidade de filme; espessura de filme controlável e boa repetibilidade. A desvantagem é que o equipamento é mais complicado e requer dispositivos de alta tensão. Além disso, a combinação do método de evaporação e do método de pulverização catódica é chamada de revestimento iônico. A vantagem deste método é que o filme obtido possui forte adesão entre o substrato e o substrato, e possui alta taxa de deposição e alta densidade de filme.

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