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PVD é a abreviatura de Deposição Física de Vapor (Deposição Física de Vapor). Refere-se à prática de usar tecnologia de descarga de arco de baixa tensão e alta corrente para vaporizar o material alvo e ionizar tanto o material evaporado quanto o gás sob condições de vácuo. Ao utilizar a aceleração do campo elétrico, o material evaporado e seus produtos de reação são depositados na peça.
A tecnologia PVD (deposição física de vapor) é dividida principalmente em três tipos: revestimento por evaporação a vácuo, revestimento por pulverização catódica a vácuo e revestimento iônico a vácuo
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