Terminologia comum de vácuo11

1. ângulo de revestimento: O ângulo entre a direção das partículas incidentes no substrato e a normal da superfície revestida.
2. pulverização catódica a vácuo: No vácuo, íons de gás inerte bombardeiam átomos (moléculas) ou aglomerados da superfície alvo.
3. pulverização catódica de feixe de íons: O alvo é pulverizado por um feixe de íons obtido de uma fonte de íons especial.
4.Limpeza por descarga incandescente: Com base no princípio da descarga incandescente, a superfície do substrato e do filme é limpa por bombardeio de descarga de gás. China Máquina de revestimento decorativo a vácuo Fornecedores
5. Deposição física de vapor PVD: No vácuo, o material de revestimento é vaporizado por métodos físicos, como evaporação ou pulverização catódica, e depositado no substrato.
6. Deposição química de vapor CVD: Um método de deposição de novos materiais de filme em substratos por reações químicas de vapor de gases reagentes com uma certa proporção química sob condições de ativação específicas (geralmente a uma certa temperatura elevada).