Análise da tecnologia comum de revestimento por evaporação-Tecnologia Co. do vácuo de Ningbo Danko, Ltd.

Análise da tecnologia comum de revestimento por evaporação

1. Revestimento de evaporação por resistência: A fonte de evaporação por resistência é usada para evaporar materiais de baixo ponto de fusão, como ouro, prata, sulfeto de zinco, fluoreto de magnésio, trióxido de cromo, etc.

2. Feixe de elétrons chapeamento de evaporação : Depois que o material do filme é vaporizado e evaporado por aquecimento por feixe de elétrons, ele é condensado na superfície do substrato para formar um filme, que é um método de aquecimento importante na tecnologia de evaporação a vácuo.

Existem muitos tipos de tais dispositivos. Com a ampla aplicação da tecnologia de película fina, não apenas os requisitos para os tipos de membranas são diversos, mas também os requisitos para a qualidade das membranas são mais rigorosos.

A evaporação da resistência não pode mais atender às necessidades de evaporação de alguns metais e não metais. A fonte de calor por feixe de elétrons pode obter uma densidade de energia muito maior do que a fonte de calor por resistência, e o valor pode chegar a 104-109w/cm2, de modo que o filme pode ser aquecido a 3.000-6.000c.

Isto proporciona uma melhor fonte de calor para a evaporação de metais refratários e materiais não metálicos, como tungstênio, molibdênio, germânio, SiO2, AI2O3, etc. Além disso, como o material a ser evaporado é colocado em um cadinho resfriado a água, a evaporação do material do recipiente e a reação entre o material do recipiente e o material do filme podem ser evitados, o que é importante para melhorar a pureza do filme.

Além disso, o calor pode ser adicionado diretamente à superfície do material do filme, de modo que a eficiência térmica é alta e as perdas por condução de calor e radiação de calor são pequenas.

3. Revestimento por evaporação por aquecimento por arco: Um método de aquecimento semelhante ao método de aquecimento por feixe de elétrons é o método de aquecimento por descarga de arco. Também possui as características de evitar a contaminação de materiais de aquecimento por resistência ou de cadinho, e possui as características de alta temperatura de aquecimento, especialmente indicada para a evaporação de metais refratários, grafite, etc.

Ao mesmo tempo, o equipamento utilizado neste método é mais simples do que o do dispositivo de aquecimento por feixe de elétrons, por isso é um dispositivo de evaporação relativamente barato.

4. Revestimento de evaporação por feixe de laser: O método de usar laser pulsado de alta densidade de potência para evaporar materiais e formar filmes finos é geralmente chamado de evaporação a laser

5. Chapeamento de evaporação por aquecimento por indução de alta frequência: use o princípio do aquecimento por indução para aquecer o metal até a temperatura de evaporação.

O cadinho contendo o material do filme é colocado no centro da bobina espiral, e uma corrente de alta frequência passa através da bobina, de modo que o material do filme metálico pode gerar corrente para se aquecer até evaporar.

Características da fonte de evaporação de aquecimento por indução:

1. Alta taxa de evaporação

2. A temperatura da fonte de evaporação é uniforme e estável, e não é fácil produzir o fenômeno de respingos de alumínio

3. A fonte de evaporação é carregada de uma só vez, nenhum mecanismo de alimentação de fio é necessário, o controle de temperatura é relativamente fácil e a operação é simples

4. Os requisitos para a pureza do material da membrana são ligeiramente mais amplos.

Máquina de revestimento a vácuo por evaporação térmica