Quais são as contramedidas para melhorar as reações adversas do revestimento a vácuo?

Melhorar a estratégia:

Reforçar o tratamento desengordurante e descontaminante. Se for limpeza ultrassônica, deve-se focar na função desengordurante e garantir a eficácia da solução desengordurante; se for limpo à mão, considere limpar com pó de carbonato de cálcio e depois limpar.

Fortaleça o cozimento antes de plaquear. Se as condições permitirem, é melhor que a temperatura do substrato possa atingir 300 ℃ ou mais, e a temperatura constante deve ser superior a 20 minutos para fazer com que o vapor de água e o vapor de óleo na superfície do substrato volatilizem tanto quanto possível. *Nota: Quanto maior a temperatura, maior a capacidade de adsorção do substrato, também é fácil adsorver o pó. Portanto, a limpeza da câmara de vácuo deve ser melhorada. Caso contrário, a poeira aderirá ao substrato antes do revestimento, o que afetará a resistência do filme, além de outros defeitos. (A temperatura de dessorção química do vapor de água no substrato no vácuo está acima de 260 ℃). No entanto, nem todas as peças precisam ser cozidas em alta temperatura, e alguns materiais de nitrato têm alta temperatura, mas a resistência do filme não é alta e podem ocorrer manchas. Isto tem uma relação maior com a tensão e a correspondência térmica dos materiais.

Queo as condições permitem, a unidade é equipada com um condensador (PLOYCOLD), que pode não só aumentar a velocidade de bombeamento de vácuo da unidade, mas também ajudar a remover vapor de água, óleo e gás do substrato.

Aumente o grau de evaporação do vácuo. Para a máquina de revestimento acima de 1 metro, o vácuo inicial da evaporação deve ser superior a 3*10-3Pa. Quanto maior for a máquina de revestimento, maior será o vácuo inicial da evaporação.

Quando possível, a unidade é equipada com uma fonte de íons, bombardeada antes do galvanização, limpa a superfície do substrato e auxilia no processo de galvanização, o que favorece a compactação e firmeza do filme.

Para remover a umidade do material da membrana, coloque o material da membrana a ser utilizado em uma placa de Petri em uma câmara de vácuo para secagem.

Mantenha o ambiente de trabalho seco (incluindo limpeza de lentes, área de trabalho com guarda-chuva) e não deixe entrar muito vapor de água ao limpar o ambiente de trabalho.

Para filmes multicamadas, ao projetar o sistema de filme, é necessário considerar a combinação do filme e do substrato, e considerar o uso máximo possível de material de filme Al2O3, que possui uma boa força de adsorção para substratos. Para filmes metálicos, a camada de revestimento de Cr ou liga de Cr também pode ser considerada. As ligas de Cr ou Cr também apresentam melhor poder de adsorção ao substrato.

Use líquido de polimento (líquido de polimento) para reabilitar e remover a camada corroída (camada hidrolisada) na superfície da lente

Às vezes, uma redução adequada da taxa de evaporação é útil para aumentar a resistência do filme e tem um significado positivo na melhoria da suavidade da superfície do filme.

Estresse do filme:

O processo de formação de um filme fino é um processo de transformação da forma do material. É inevitável que haja tensão na camada do filme após a formação do filme. Para filmes multicamadas, existem combinações de diferentes materiais de filme e as tensões refletidas por cada camada de filme. Existem diferenças, algumas são tensões de tração, outras são tensões de compressão e existem tensões térmicas do filme e do substrato.

A existência de tensão é prejudicial à resistência do filme. O mais leve significa que o filme não suporta o atrito, e o mais pesado causa rachaduras ou redes finas no filme.

Para filmes antirreflexo, a tensão geralmente não é óbvia devido ao pequeno número de camadas. (No entanto, algumas lentes de nitrato apresentam problemas de estresse, mesmo que sejam filmes anti-reflexo.) Para filmes de alta reflexão e filmes de filtro com mais camadas, o estresse é Um fator indesejável comum ao qual deve ser dada atenção especial.

Melhorar a estratégia:

Asse após o chapeamento. Depois que a última camada de filme for revestida, não pare de assar imediatamente e continue “temperando” por 10 minutos. Torne a estrutura do filme mais estável.

O tempo de resfriamento é prolongado adequadamente e o recozimento está envelhecendo. Reduza o estresse térmico causado pela diferença excessiva de temperatura entre o interior e o exterior da câmara de vácuo.

Para filmes de alta reflexão, filmes de filtro, etc., durante o processo de evaporação, a temperatura do substrato não deve ser muito alta, pois altas temperaturas podem causar estresse térmico. E tem um efeito negativo na estabilidade óptica de materiais de filme como óxido de titânio e óxido de tântalo.

Os íons auxiliam no processo de revestimento para reduzir o estresse.

Escolha o sistema de filme apropriado para combinar, a camada de material do filme e o substrato combinam. (Por exemplo, o filme anti-reflexo de cinco camadas usa Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 também pode usar SV-5 (um material de filme misto de ZrO2 TiO2) ou outros materiais de filme mistos de alto índice de refração.

Reduzir adequadamente a taxa de evaporação (Al2O3-2,5A/S; ZrO2-3A/S; taxa de referência MgF2-6A/S)

O revestimento de reação de enchimento de oxigênio é realizado em todos os materiais de filme de óxido e a taxa de entrada de gás oxigênio é controlada de acordo com os diferentes materiais de filme.

Dureza superficial do filme externo:

O filme anti-reflexo geralmente usa MgF2 como camada externa. A seção transversal do filme é uma estrutura colunar relativamente solta e a dureza da superfície não é alta, por isso é fácil limpar a estrada.

Melhorar a estratégia:

Quando o projeto do sistema de filme permitir, adicione uma camada de SiO2 de cerca de 10 nm à camada externa, e a suavidade da superfície do dióxido de silício será melhor do que a do fluoreto de magnésio (mas a resistência ao desgaste e a dureza do dióxido de silício não são tão boas quanto o fluoreto de magnésio). Após alguns minutos de bombardeio iônico após o chapeamento, o efeito de firmeza será melhor. (Mas a superfície ficará mais espessa)

Depois que a lente sair da câmara de vácuo, coloque-a em local seco e limpo para evitar a rápida absorção de umidade e reduzir a dureza da superfície.

Outro

As razões para a baixa resistência do filme incluem baixo vácuo (propenso a ocorrer em máquinas controladas manualmente), câmara de vácuo suja e aquecimento insuficiente do substrato.

Quando o gás auxiliar é preenchido, o material da membrana também é desgaseificado, o que reduz o grau de vácuo, reduz o caminho livre molecular e a camada da membrana não é forte. Portanto, o enchimento do gás auxiliar deve considerar a desgaseificação do material do filme, e o material do filme é totalmente pré-fundido e totalmente desgaseificado antes do revestimento, o que também pode evitar a diminuição excessiva do grau de vácuo devido à desgaseificação do filme material durante a evaporação, afetando assim a resistência do filme.

Tire o filme

Embora o lançamento do filme aqui também seja uma espécie de filme fraco, ele tem algumas diferenças em relação ao lançamento anterior. As principais características são: liberação pontual, liberação de borda e liberação parcial.

A principal razão é que há sujeira ou poluentes na membrana.

Método de melhoria: melhore a limpeza do substrato.