Como funciona uma máquina de revestimento a vácuo por pulverização catódica Magnetron
Pulverização de magnetron é uma técnica popular de revestimento a vácuo usada para criar filmes funcionais e decorativos para uma ampla gama de aplicações. A técnica é amplamente empregada na indústria eletrônica, por exemplo, na produção de componentes eletrônicos como microprocessadores, chips de memória, microcontroladores e transistores.
O processo de pulverização catódica envolve o bombardeio de um material alvo por alta tensão DC ou energia pulsada DC, RF ou AC. O processo também requer uma câmara de alto vácuo e bombas para manter o ambiente o mais limpo possível.
Antes que o processo de pulverização catódica possa começar, a câmara deve ser preenchida com um gás adequado para o processo. Este gás é geralmente argônio, mas outros gases, como o oxigênio, também podem ser usados. O tipo correto de gás depende dos materiais específicos que estão sendo depositados e das propriedades necessárias para que o revestimento desempenhe a função pretendida.
Dependendo do processo que você está procurando, o sistema de energia irá variar, mas todos têm o mesmo princípio básico: a energia CC de alta tensão ou CC pulsada flui através do cátodo onde a pistola de pulverização catódica e o material alvo ficam. Esta potência deve aumentar a partir de uma tensão mais baixa antes de desencadear totalmente o processo de deposição.
O cátodo em si é montado acima do substrato e pode ter formato redondo ou retangular para atender aos requisitos de sua aplicação. A configuração redonda é melhor para sistemas de substrato único, enquanto o cátodo retangular é ideal para sistemas em linha.
Quando o processo de pulverização catódica estiver concluído, é hora de carregar o substrato na câmara de disposição principal e prepará-lo para a deposição. Isto normalmente é feito fixando-o a um suporte de substrato que segura o substrato e o fixa dentro da câmara. O suporte também pode ter a opção de carregar e retirar o substrato sem comprometer o nível de vácuo.
Em muitos sistemas de pulverização catódica de magnetron, o substrato é carregado na câmara de deposição através de uma porta, permitindo que ele entre e saia da câmara de bloqueio de carga sem comprometer o ambiente de vácuo. Isto evita danos ao substrato ou materiais e permite uma troca rápida do material de deposição.
Uma vez carregado o substrato, ele é colocado dentro da câmara de deposição principal onde ficará localizada uma pistola de pulverização catódica com o material de revestimento desejado e uma pistola de pulverização catódica para o gás a ser bombeado para dentro da câmara. Uma vez que o gás está no lugar, um forte campo magnético atrás do material alvo cria as condições para a ocorrência de pulverização catódica.
Durante o processo de pulverização catódica, íons carregados de alta energia são ejetados do material alvo para o substrato. Esses íons têm uma alta densidade iônica, tornando-os relativamente estáveis na atmosfera de pulverização catódica e dando origem a altas taxas de deposição. A morfologia iônica do material pulverizado na superfície dependerá de vários fatores, incluindo o ângulo de polarização do íon e a energia de ligação superficial dos íons.
A densidade de íons de pulverização catódica e a taxa de pulverização catódica dos átomos metálicos também serão afetadas pela pressão na qual o plasma é criado, ou seja, a pressão mTorr, que pode variar de 10-3 a cerca de 10-2. A taxa de pulverização catódica de materiais como isolantes e materiais condutores será reduzida devido aos potenciais de ionização iônica mais baixos desses materiais. Máquina de revestimento por pulverização catódica Magnetron
Revestimentos de íons multiarco e pulverização catódica podem ser depositados em uma ampla gama de cores. A gama de cores pode ser ainda melhorada pela introdução de gases reativos na câmara durante o processo de deposição. Os gases reativos amplamente utilizados para revestimentos decorativos são nitrogênio, oxigênio, argônio ou acetileno. Os revestimentos decorativos são produzidos numa determinada gama de cores, dependendo da relação metal-gás no revestimento e da estrutura do revestimento. Ambos os fatores podem ser alterados alterando os parâmetros de deposição.
Antes da deposição, as peças são limpas para que a superfície fique livre de poeira ou impurezas químicas. Uma vez iniciado o processo de revestimento, todos os parâmetros relevantes do processo são continuamente monitorados e controlados por um sistema automático de controle computadorizado.
• Material do Substrato: Vidro, Metal (aço carbono, aço inoxidável, latão), Cerâmica, Plástico, Joalheria.
• Tipo de Estrutura: Estrutura Vertical, Aço Inox #304.
• Filme de Revestimento: Filme metálico multifuncional, filme composto, filme condutor transparente, filme de aumento de refletância, filme de blindagem eletromagnética, filme decorativo.
• Cor do filme: multicores, preto arma, cor dourada titânio, cor rosa dourado, cor aço inoxidável, cor roxa, preto escuro, azul escuro e outras cores.
• Tipos de filme: TiN, CrN, ZrN, TiCN, TiCrN, TiNC, TiALN e DLC.
• Consumíveis em produção: Titânio, Cromo, Zircônio, Ferro, ligas alvo; alvo plano, alvo cilíndrico, alvo duplo, alvo oposto.